EDA电子设计自动化

PowerPro-卡核

PowerPro

制造商:Mentor Graphics PowerPro RTL低功耗平台提供了一个完整的解决方案,可以在RTL开发周期中精确测量、交互式探索和彻底优化功耗 使用PowerPro,设计师可以直接在RTL设计上评估功耗,而不...
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01.8W+475
Questa Covercheck代码覆盖率检查工具-卡核

Questa Covercheck代码覆盖率检查工具

制造商:Mentor Graphics Questa CoverCheck显著提升了实现代码覆盖率收敛的进程。即使在完成完备的仿真验证后,通常仍然会有一些没有被覆盖的代码。Questa CoverCheck可以定位这些问题,帮助使...
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01.8W+2786
Xpedition Designer-卡核

Xpedition Designer

制造商:Mentor Graphics Xpedition是业界最具创新性的PCB设计流程,提供从系统设计的定义集成制造执行。其独特的专利技术,可以减少50%以上缩短设计周期,同时显着提高整体素质和资源利用效率...
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01.3W+1534
HyperLynx DRC-卡核

HyperLynx DRC

制造商:Mentor Graphics HyperLynx DRC对影响EMI/EMC、信号完整性和电源完整性的问题执行PCB设计规则检查。它是高度可定制的,允许用户为几乎任何东西创建DRC HyperLynx DRC包含一组核心规则检...
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081532469
Calibre nmMPC-卡核

Calibre nmMPC

制造商:Mentor Graphics Calibre Mask Process Correction(MPC)提供了专门为电子束掩模书写器开发的优化。新的校正和建模功能提高了高级节点的掩模CD线性度和一致性,尤其是对于较小的特征尺...
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01.9W+249
Calibre MDPview-卡核

Calibre MDPview

制造商:Mentor Graphics Calibre MDPview可通过各自的工作组,以GDSII和OASIS格式,以及所有流行的掩模书写器图案格式和数据集,快速方便地查看设计数据。它是Mentor Graphics提供的Calibre MD...
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052332685
HyperLynx PI-卡核

HyperLynx PI

制造商:Mentor Graphics HyperLynx PI包括布局前后的电源完整性分析,如直流压降分析、交流解耦分析、平面噪声分析和模型提取 功率完整性(PI)分析是现代电子设计的重要组成部分。集成电路使...
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071414022
Calibre OPCsbar-卡核

Calibre OPCsbar

制造商:Mentor Graphics 散射条(SBs)是放置在刻线图案边缘附近的亚分辨率、相位或铬条状特征。抗散射条(ASB)只是SBs的倒数,并嵌入到图案中。SBs和ASB改变孤立线和半孤立线航空图像的斜率...
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01.1W+3188
Calibre InRoute-卡核

Calibre InRoute

制造商:Mentor Graphics Mentor Graphics开发了Calibre InRoute,通过将Calibre签准功能引入地点和路线环境,支持先进节点设计的制造关闭 Calibre InRoute通过在Calibre平台(制造签准的行业领...
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01.9W+2307
Calibre MDPmerge-卡核

Calibre MDPmerge

制造商:Mentor Graphics Calibre MDPmerge能够实现从物理验证和分辨率增强技术(RET)到完成掩模数据准备的连续流程。Calibre Break以VSB11格式生成单独的图案文件,优化了最快的掩模写入和严...
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08525668
HyperLynx SI-卡核

HyperLynx SI

制造商:Mentor Graphics HyperLynx Signal Integrity(SI)在PCB系统设计中生成快速、简单和准确的信号完整性分析 HyperLynx SI帮助工程师高效地管理规则探索、定义和验证,确保完全实现工程意...
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01.9W+4494
Calibre WORKbench-卡核

Calibre WORKbench

制造商:Mentor Graphics Calibre WORKbench是一个易于使用的环境,用于创建准确的流程模型和经过测试的、生产就绪的工具设置文件。经批准的模型和设置文件可移交给生产用户,以推动交钥匙IC布...
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01.4W+4247