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Calibre OPCverify-卡核

Calibre OPCverify

制造商:Mentor Graphics 当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术(RET)应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因,这导致了更高的硅故障率。为了减少错误,在...
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086782731
xSD Systems Designer-卡核

xSD Systems Designer

制造商:Mentor Graphics Xpedition xSD Systems Designer将PCB设计流程扩展到多板电子系统定义、分区、优化和实现 它为多板系统的定义和实施提供了自动化的数据和连接管理功能,显著缩短了设计...
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01.5W+1973
FPGA I/O Optimization-卡核

FPGA I/O Optimization

制造商:Mentor Graphics FPGA I/O优化可以消除FPGA和PCB设计组织之间的障碍,以更高的精度和速度实现并行设计过程,并提供正确的按结构FPGA I/O分配,允许在PCB过程中进行管脚交换和基于布局的...
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072344024
LeonardoSpectrum-卡核

LeonardoSpectrum

制造商:Mentor Graphics LeonardoSpectrum 是 Mentor 公司出品的一款 HDL 逻辑综合软件,应用于通信、宽带、无线及多媒体领域的可编程 SoC 设计。Leonardo Spectrum 可控性较强。可以提供更好...
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01.2W+3437
Catapult High-Level Synthesis-卡核

Catapult High-Level Synthesis

制造商:Mentor Graphics Catapult高级综合平台使设计师能够使用行业标准ANSI C++和SystemC来描述功能意图,并提升到更高效的抽象级别 从这些高级描述中,Catapult生成生产质量RTL。通过加快RTL...
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01.8W+2625
Calibre MAPI-卡核

Calibre MAPI

制造商:Mentor Graphics Calibre MAPI应用程序编程接口提供面向对象的iTCL类和函数,用于快速高效地开发计量应用程序。它通过Calibre WORKbench访问,方便易用。Calibre MAPI扩展了Calibre MDP...
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01W+2754
Precision Physical-卡核

Precision Physical

制造商:Mentor Graphics 精确的物理特性后放置和路由(p&R)物理合成,以满足复杂FPGA设计的严格时序要求 除了p&R physical synthesis,Precision physical为进一步的物理优化提...
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01.2W+918
Precision RTL-卡核

Precision RTL

制造商:Mentor Graphics Precision RTL是Mentor Graphics的入门级FPGA合成解决方案,提供高质量的结果,是Mentor Graphics全面的独立于FPGA供应商的解决方案的一部分 Precision RTL拥有丰富的...
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059291153
HDL Author-卡核

HDL Author

制造商:Mentor Graphics HDL作者提高了单个工程师的生产力,同时提高了他们作为一个团队的工作能力。先进的编辑器和HDL代码可视化,以图形和表格的形式呈现设计,加快了FPGA和ASIC设计的设计创...
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01.3W+3180
Hyperlynx 3D Full Wave Solver-卡核

Hyperlynx 3D Full Wave Solver

制造商:Mentor Graphics 高速PCB完整解决方案,可以帮助硬件工程师在统一的环境中解决所有高速相关的问题,易于使用,是一款最具性价比的高速仿真解决方案。 Mentor Graphics整合了Nimbic的三...
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Questa-卡核

Questa

制造商: Mentor Graphics 软件主要特点: - 内建单内核仿真器支持SystemVerilog、Verilog、VHDL、PSL以及SystemC。 - 内建约束解释器支持Constrained-random激励生成,以实现Testbench-Automat...
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01.4W+1851
Tanner Calibre One-卡核

Tanner Calibre One

制造商:Mentor Graphics Tanner Calibre One与Calibre的功能、技术、内核及设计套件完全相同,是基于Tanner流程的Calibre。Tanner Calibre One和Tanner的前端设计环境S-Edit以及版图设计环境L-...
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