制造商：Mentor Graphics Calibre Fraction直接以目标掩码写入格式导出掩码生成数据，无需更改工具或创建大型中间文件。Calibre Break的版本可用于Micronic、JEOL、MEBES、东芝和日立格式 Calib...

制造商：Mentor Graphics Veloce是真正的企业级验证系统，在传统的在线仿真模式（ICE）上可使用高级的事务级加速方式。另外，Veloce2为设计者提供了众多常用的软硬件验证资源，帮助设计者迅速搭...

制造商：Mentor Graphics HyperLynx Analog提供真正可扩展的模拟电路模拟，允许PCB设计师精确控制模拟参数和环境 它扩展了DxDesigner的功能，包括混合信号和模拟电路设计模拟，以显著减少周期时...

制造商：Mentor Graphics Xpedition Package Integrator帮助IC、封装和PCB联合设计团队可视化并优化集成硅板载平台的复杂单芯片或多芯片封装 它可以大大降低整个系统的成本，同时更好地控制设计...

制造商：Mentor Graphics Nitro SoC的架构可以处理先进工艺技术中复杂的多图案和FinFET要求。它通过一个非常紧凑且可扩展的数据库提供了业界最高的容量，以处理包含数亿个实例的设计。低功耗功...

制造商：Mentor Graphics Calibre OPC pro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正，以提高产量和工艺自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程，对布局进行更改，以补偿深亚微米制造过程中固有...

制造商：Mentor Graphics Calibre MPCpro是一种针对电子束光刻和掩模蚀刻工艺引入的系统误差的解决方案，基于Calibre OPCpro技术进行光学工艺校正。Calibre MPCpro可纠正雾化、显影和蚀刻加载等...

制造商：Mentor Graphics 利用Questa Formal验证引擎，可以深度穷举分析设计的行为，从而可以探测到响应检查器断言违反的复杂错误和触发条件，发现验证激励的漏洞，提高验证的完备性。 对于关键...

制造商：Mentor Graphics Oasys RTL物理RTL合成解决方案是最先进合成技术的革命性进步。它解决了几十年前设计的传统RTL合成工具的局限性。Oasys RTL的设计满足了复杂、先进的节点、高性能设计的...

制造商：Mentor Graphics Catapult高级综合平台使设计师能够使用行业标准ANSI C++和SystemC来描述功能意图，并提升到更高效的抽象级别 从这些高级描述中，Catapult生成生产质量RTL。通过加快RTL...

制造商：Mentor Graphics 奥林巴斯SoC的专利多角多模式（MCMM）架构优化了整个流程中所有模式、角点和功率状态的功率和时序。这项关键创新提供了出色的计时和信号完整性结果，避免了不可预测的...

制造商：Mentor Graphics Calibre MASKOPT通过对断裂数据进行高级预处理来降低总放炮次数，从而降低掩模成本和掩模写入时间。Calibre MASKOPT可以在45 nm及以下的先进技术节点的数据集上实现高...