Tanner MEMS

制造商：Mentor Graphics
在当前MEMS设计领域，工具集成度比以往增加了很多。为了应对市场竞争，用户需要一个已经成功证明能够加速商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件与相应模拟/数模混合电路设计的集成变得简单，同时也能够帮助用户改善MEMS器件的设计。因此，它能够减少培训时间，缩短设计周期。

Tanner MEMS设计流程的核心是L-Edit。L-Edit是一款MEMS版图编辑工具，可以进行曲线多边形和全角运算操作。相比于工程师使用的其他CAD工具，L-Edit的版图规划更加清晰。用户可以快速的画出所需的图形，并方便地检查多层版图组合之间的重叠和相互关联。利用L-Edit例如强大的曲线编辑、实时DRC检查、布尔运算、对象捕捉与对准等方面的优势，用户可以更有效的完成设计任务，并节约时间与成本。与此同时，在任意形状与曲率的多边形复杂运算和派生层生成操作上，L-Edit的精度也可以做的非常高。这些操作包含AND，OR，XOR，Subtract，Grow和Shrink等。它们允许用户根据简单的形状产生复杂的MEMS特殊结构。如下图所示：

Tanner MEMS的特点及优势

– 同一环境下完整的IC和MEMS设计解决方案

– 25年的MEMS设计经验

– 从版图生成3D MEMS模型

– 支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式

– L-Edit提供可视化连接的节点高亮，可以快速查找和定位DRC和LVS问题

– 高度可编程的MEMS版图设计工具，如曲线多边形、多角操作等

– 参数化派生层产生工具，可实现特殊MEMS结构设计

– 完整可视化的多图层几何图形设计- 利用工具栏便捷地生成、摆放和对准图形，执行任意角度旋转、翻转、合并、咬和切片操作，指定一个参考点进行编辑操作，如对象旋转、翻转、移动，或使用基点位置进行实例放置等

– 针对MEMS工艺的DRC检查

– 支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出

– 支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计

– Soft MEMS工具选项

> 高级3D分析工具：机械，热，声，电，静电，磁性和流体分析

> 系统级仿真，包含IC和MEMS协同仿真

> 根据3D分析结果，自动生成MEMS器件行为模型