制造商:Mentor Graphics
Calibre OPC pro提供复杂IC布局的全芯片光学和工艺校正,以提高产量和工艺自由度。Calibre OPC pro使用面向批量的流程,对布局进行更改,以补偿深亚微米制造过程中固有的光刻变形
Calibre OPCpro支持基于规则和模拟的校正,并使用根据测量的制造工艺特征开发的光学和工艺模型模拟校正结果。OPC pro和nm OPC都具有纠正相移布局的能力,包括门的衰减和替代PSM。
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