Calibre MASKOPT

制造商：Mentor Graphics

Calibre MASKOPT通过对断裂数据进行高级预处理来降低总放炮次数，从而降低掩模成本和掩模写入时间。Calibre MASKOPT可以在45 nm及以下的先进技术节点的数据集上实现高达20%的放炮次数减少

对基于模型的OPC进行的布局调整会产生大量断裂的可移动段。Calibre MASKOPT将此OPC后数据中的过度点动对齐，不会影响光刻工艺关键尺寸（CD）控制的结果质量。正确对齐两个相对的、未对齐的折弯可以消除一个骨折后矩形。在整个布局中，这种对齐方式大大简化了OPC后的数据，显著减少了数据量、中断运行时间和掩码写入时间。MASKOPT的输出可通过Calibre OPCverify和Calibre MDPverify进行验证。

calibre MASKOPT左图显示了使用MASKOPT前OPC数据的破裂，右图是使用MASKOPT进行点动校准和缩小后实现的简化破裂。

主要好处：

在不降低掩模质量的情况下简化并减少OPC后数据量

在45nm及以下的数据集上，放炮次数较多可减少20%

将小数字计数较多减少50%

减少掩码写入时间

更低的掩码写入成本

减少屏蔽数据量

利用集成的掩模数据准备流程提高生产效率主要产品功能

移除OPC后掩模数据中的过度点动

包括所有流行面具作家的翻译人员

接受GDSII和Oasis输入数据

与Calibre工具套件完全集成