Calibre OPCverify

制造商：Mentor Graphics

当前的低k1光刻工艺增加了纳米设计中分辨率增强技术（RET）应用的复杂性。由于掩模规则约束、碎片、建模和计量误差等原因，这导致了更高的硅故障率。为了减少错误，在将设计发送给掩模或晶圆制造商之前，需要一个OPC后验证步骤来检测故障

Calibre Opc验证功能和优点：

先进工艺条件下的精确晶圆轮廓模拟，包括浸没式光刻

支持多种OPC使用模式，包括OPC配方验证、掩码签署、岩性友好设计、VT5和光学

用于CD错误、间距错误、桥接和挤压检查以及两层检查的预定义和自定义脚本

易于定制并集成到现有流程中

Calibre Hierarchy polygon processing engine为所有岩性模拟提供了单一、精确的建模基础

高处理可扩展性确保了掩模操作的必要周转时间

没有专用硬件；在所有领先平台上运行